四---碳的溶氧性---，因此被科学家用于超---潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的---内，小白鼠仍可安全脱险。随着芯片制程向7纳米迈进，细微杂质对芯片的损害更为明显，苏州四---碳，电子产业对高纯电子气体的纯度要求进一步提高，在此背景下，我国高纯四---碳生产技术与产品仍有提升空间。是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，高纯气高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。四---1碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四---1碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。将其通过装有氢1氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟1化硅，四---碳公司，随后通过硅胶和五氧1化二磷干燥塔得到终产品。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
四---1碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯1化碳。四氯1化碳与氟1---的反应在填有氢1氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，四---碳生产，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。
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