四---碳（cf4）早就是通过氟碳直接反应法制得的，该方法经过不断的发展与完善， 如今已成为工业上制备全的主要的方法之一。四---碳用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，随后通过硅胶干燥塔得到产品。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分，后经精馏而得成品。
四---1碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，四---碳价格，其毒性不及四氯1化碳。四氯1化碳与氟1---的反应在填有氢1氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。
四---碳亦称全---碳、四氟甲4烷、全---碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，工业四---碳厂家，铝等金属材料都可以使用。四---碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，四---碳，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。
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