高纯四---碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域，可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料，是用量大的等离子蚀刻气体。此外，四---碳价格，高纯四---碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四---碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激---体，包头四---碳，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四---碳用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，随后通过硅胶干燥塔得到产品。
目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的---内，小白鼠仍可安全脱险。相对分子量88.00。在常温下，四---碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。四---碳，又称为四氟甲1烷、freon-14及r 14，是一种卤代烃(化学式:cf4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲1烷、全---碳，也可以被视为一种无机化合物。
四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，四---碳多少钱，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐---中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。四---碳在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。
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