




因为四---碳和四---1硅都是共价化合物,然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能,键长也是前者短得多,所以四---碳的热稳定性---。吸入四---碳的后果与浓度有关,四---碳公司,包括头1痛、---、头昏眼花及心血1管系统的破坏(主要是---)。长时间接触会导致---的---破坏。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,高纯四---碳厂家,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),邯郸四---碳,然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒---物。
电子四---碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾---,四---碳价钱,---四---碳(cf4)的纯度和安全稳定使用。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四---碳。
含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速cf4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。四---1碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四---1碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。将其通过装有氢1氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟1化硅,随后通过硅胶和五氧1化二磷干燥塔得到终产品。由于化学稳定性极强,cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
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