深圳四---碳生产-谱纯气体,长期供应

由碳与氟反应，或一氧1化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟---甲1烷与---1氢反应，或---1碳与---银反应，或四氯1化碳与---1氢反应，都能生成四---1碳。吸入四氟1化碳的后果与浓度有关，包括头1痛、---、头昏眼花及心1血管系统的破坏(主要是---)。长时间接触会导致---的---破坏。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

它在---中的寿命约为50，000年，增温(暖化)系数是6，500(---的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似，但四---碳不会破坏臭氧层。四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四---碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，四---碳生产，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。