工业四---碳-呼和浩特四---碳-谱纯 为您竭心服务

四---碳是目前微电子工业中用量大的等离子烛刻气体，其高纯气及四---碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

由碳与氟反应，或一氧1化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟---甲1烷与---1氢反应，或---1碳与---银反应，四---碳气体价格，或四氯1化碳与---1氢反应，都能生成四---1碳。吸入四氟1化碳的后果与浓度有关，包括头1痛、---、头昏眼花及心1血管系统的破坏(主要是---)。长时间接触会导致---的---破坏。对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，四---碳公司，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。